连续深浮雕微光学元件研究及应用

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连续深浮雕微光学元件以衍射效率高、衍射色差小、折光性能强等优点而倍受重视.但由于制作技术的限制使这类新型元件的研究尚未深入.该文基于研究现状,在突破制作技术的基础上,对连续深浮雕微光学元件进行了系统深入的研究.该文分析了连续深浮雕微光学元件的光学特性,阐明了它相比于二元光学元优势.深入分析了元件浮雕加深后们相和振幅调制能力的新变化,基于光本理论和标量衍射理论,提出了关于连续深浮雕微光学元件光场分布的追迹衍射模型.该模型对传弘微光学模型进行了拓展,在描述连续深浮雕微光学元件射特性时有着比传统模型更高的精确性.在总结和继承前人工作的基础上,作者发展了用于生成连续曝光量分布掩模移动光刻技术.通过是掩模移动方式、空间频率补偿和移动掩模编码技术,使掩模移动技术成为产生的曝光量分布结构复杂、分布类型多样、具备实用性的光刻技术.
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