【摘 要】
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本文采用闭式非平衡磁控溅射系统在单晶Si(100)片和316L不锈钢片上制备了Cr(B)CN薄膜和Cr(Ti)(B)N薄膜,采用X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪分别对薄膜晶体相结构和其表面原子化学键状态进行分析,采用扫描电子显微镜对薄膜表面和截面形貌进行观察。薄膜的硬度和弹性模量通过金刚石纳米压痕仪进行测试,而薄膜与基体的附着力通过声发射划痕仪进行测试。薄膜在水环境下的摩擦学性能通过球—盘式摩擦磨
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本文采用闭式非平衡磁控溅射系统在单晶Si(100)片和316L不锈钢片上制备了Cr(B)CN薄膜和Cr(Ti)(B)N薄膜,采用X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪分别对薄膜晶体相结构和其表面原子化学键状态进行分析,采用扫描电子显微镜对薄膜表面和截面形貌进行观察。薄膜的硬度和弹性模量通过金刚石纳米压痕仪进行测试,而薄膜与基体的附着力通过声发射划痕仪进行测试。薄膜在水环境下的摩擦学性能通过球—盘式摩擦磨损试验机进行分析,摩擦试验结束后,通过金相显微镜和非接触式3D光学形貌仪对薄膜磨痕进行分析;为了进一步分
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