脉冲激光沉积光致发光薄膜和激光烧蚀产物的分布

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该文主要包括两部分.第一部分包括第三到第五章,分别介绍使用脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)技术制备具有光致发光性质的薄膜Sr<,2>CeO<,4>,Ga<,2>O<,3>和八羟基喹啉铝(aluminum tris-8-hydroxyquinoline,Alq<,3>).第二部分包括第六、第七章,分别介绍使用四极质谱和光谱技术,测定了脉冲激光烧蚀(pulsed laserablation,PLA)金属氧化物所得产物的质量分布、能量分布和空间角分布,以研究其物理化学过程.PLD技术制备薄膜,由于其独特的优点,已最近被人们广为利用.该文使用PLD技术制备了三种薄膜,Sr<,2>CeO<,4>,Ga<,2>O<,3>和Alq<,3>.它们都具有光致发光(photoluminescence,PL)的性质.具有PL性质的薄膜在科研和工业生产中有着广泛地应用.发光光谱技术只限于检测激发态粒子.为了研究基态粒子,使用了瞬态吸收光谱技术研究了激光烧蚀La<,2>O<,3>的产物中OaO分子TOF吸收光谱.在较低压强和Ar气氛中,TOF谱中有一个吸收峰,由于碰撞加剧,这个峰的强度随着气体压强的增加而减弱.在较高压强的O<,2>气氛中,有另外一个较宽的吸收峰出现,这个峰的强度随着O<,2>压强的增加而增加.吸光度随随探测距离的增加而呈指数衰减.在较高压强的氧气气氛中,可以使用击波(shock wave)模型描述基志LaO分子的行为.
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