基于EPLD控制的单相全桥软开关电镀电源的研究

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本文简单回顾了电镀电源的发展历程,分析了电镀电源的研究现状及其发展趋势。电镀电源的发展主要依赖三大技术的不断发展:一是电力电子变流技术;二是电力电子器件;三是控制技术。为了克服常规PWM硬开关控制技术的缺陷,本文采用先进的软开关技术,大大降低了功率开关器件的开关损耗,提高了电镀电源的开关频率,改善了输出电源电压和电流的平滑性与控制精度,采用基于80C196MC单片机与可擦除可编程逻辑器件EPLD组成的全数字化控制系统,研制了一台软开关电镀电源。在参阅了大量国内外文献的基础上,选取了一种原边加隔直电容和饱和电感器的单相全桥移相软开关变换器拓扑结构。分析了该拓扑结构的工作原理及其工作过程,并总结了其工作特性。对电镀电源主电路的关键器件进行了设计。电源变换器的功率开关器件采用现代电力电子功率器件IGBT(Insulate Gate Bipolar Transistor,绝缘栅双极型晶体管),控制系统以80C196MC单片机作为控制核心。为满足单相全桥移相逆变器的软开关工作条件,本文重点开发研究了由EPLD构成的PWM波形发生器,使得整个控制系统的控制精度和动态响应速度大大提高。设计了基于EPLD电镀电源的保护电路。针对传统PID控制策略动态性能不理想等缺陷,本文研究了电流和电压模糊+PID闭环控制系统,对电镀电源的输出电流、电压控制进行了控制算法设计,仿真结果表明模糊+PID控制系统具有超调量小、动态响应快,稳态误差小的特点,优于传统PID控制。本文提出并实验验证了采用EPLD器件EPM7128SLC设计的单相全桥高频软开关PWM波形发生器具有一定的独创性,为全面实现电镀电源数字化控制解决了关键技术。对电镀电源控制系统的硬件和软件进行合理设计。给出了单相全桥移相软开关电镀电源的实验装置与实验结果。
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