本论文研究工作是围绕以下项目展开的：以任晓敏教授为首席科学家的国家重点基础研究发展计划(973计划)项目“新一代通信光电子集成器件及光纤的重要结构工艺创新与基础研究”(2003CB314900)中的课题一“单片集成光电子器件的异质兼容理论与重要结构工艺创新”(2003CB314901)；国家973计划项目“新型光电子器件中的异质兼容问题与功能微结构体系基础研究”(2010CB327600)中的课题二“半导体异质兼容集成中的新型材料系探索与特殊超晶格结构”(2010CB327602)；王琦副教授负责的国家863计划项目“面向单片集成的新型Ⅲ-Ⅴ族含硼光电子材料的创新性研究”(2009AA032417)；以及国家“111”项目(B07005)。新一代光纤通信系统向大容量、高速、智能、集成化方向发展,对新型通信光电子器件提出了高速化、集成化的要求。而通信光电子器件在集成化的道路中面临最突出的问题就是半导体材料异质兼容问题。为了解决这个问题需要研究探寻新型微电子、光电子集成材料。含N半导体材料所表现出的奇特性质_已成为人们研究的热点,B原子具有与N相似的小原子半径,与其它Ⅲ-Ⅴ族元素所形成化合物的特性足本文关注得一个重点。鉴于实验室中新材料的合成需要一定的技术手段,而理论计算可以为新材料的性质提供前瞻性预测,为实验研制提供理论基础,因此本文采用精确性得到公认的第一性原理对新材料进行理论预测与计算。另外,半导体纳米线材料具有许多独特的优点,在新一代电子、光电子等领域有广阔的应用前景。纳米线直径小,晶格失配对其质量的影响远小于体材料,为克服异质兼容问题提供了另一条途径。基于以上两方面,本论文重点研究了含B、N的Ⅲ-Ⅴ族半导体材料和GaAs表面与纳米线的特性,取得的主要研究成果如下：1.含N的三元化合物GaNAs、GaNP研究。利用第一性原理计算了含N的三元化合物GaNP、GaNAs以及GaAsP的晶格常数与能带结构,得到了GaNAs与GaNP随组分变化的bowing参数,比较了LDA与GGA方法对该体系有效性。分析了GaNAs中原子内部弛豫效果对带隙与Bowing参数的影响,结果表明N原子在合金中的内部结构弛豫对带隙特征与Bowing参数的大小起决定性作用。同时分析了GaNP内部原子分布与能带的关系,内部N原子分布的团簇化造成了带隙的降低。2.含N四元化合物GaNAsP的研究。通过三元拟合的方法拟合出了与Si匹配的GaNAsP带隙随N含量变化的关系图。利用SQS(Special Quasirandom Structures)模型解决了四元掺杂超胞的选择难题,直接计算了与Si匹配的四元GaNAsP合金的结构与能带性质,计算分析了GaNAsP的光学性质,计算结果验证了三元拟合的带隙曲线的趋势。3.含B、N的三元与四元半导体化合物BGaNAs的研究。计算了三元材料BGaAs、BNAs、BGaN的结构与能带特性。BNAs的晶格常数跟Vegard定理有较大的偏离。利用三元拟合方法计算了与Si匹配的BGaNAs带隙随B含量的变化关系,并用四元掺杂SQS超胞方法直接计算了BGaNAs合金的结构与电子特性。分析了B、N原子在合金中的分布对稳定性和能带结构的影响,指出B、N均匀掺杂的合金将具备较低系统能量和直接带隙的特征。4.含B的Ⅲ-Ⅴ族四元化合物BGaInAs、BInPSb、BInAsP的理论研究。利用SQS模型研究了与GaAs匹配的BGaInAs的结构属性能、能带特征、光学性质等属性,得到了匹配条件下BGaInAs直接带隙发光波长范围，用三元拟合和直接四元计算两种方法比较分析了BInPSb、BInAsP分别与Si/GaAs匹配时的结构属性、能带特征和可能的带隙覆盖范围。5.BGaInAs的生长实验与特性表征。利用MOCVD生长出了BGaAs单晶外延层和相应的BGaAs/GaAs多量子阱结构(MQW)。分析了B的并入比例与生长温度(Tg)、输入Ⅲ族气相中TEB摩尔百分比(Xv)之间的关系。确定了BGaAs最优的温度生长窗口范围,合成得到B含量为5.5%的质量较高的BGaAs合金。在此基础上成功合成出了与GaAs晶格匹配的质量较高的BGaInAs合金。生长了10周期BGaInAs/GaAs MQW, XRD显示MQW的界面清晰,具有较高的晶体质量。6.闪锌矿。(ZB)和纤锌矿。(WZ)结构GaAs材料的表面特性研究利用第一性原理,分析计算了ZB结构GaAs材料的(110)、(112)、(111)表面及WZ结构GaAs材料的(1010)A、(1010)B的表面特征,得到了相应的表面能和弛豫能。分析结果表明：ZB(112)A比ZB(112)B面的弛豫能稍高,A、B表面分别形成了As-As、Ga-Ga二聚体重构；WZ(1010)A面只有简单的表面弛豫现象,B面的表面弛豫重构情况却相对较复杂；WZ(1010)A面表面能低于ZB(110)的表面能,这在一定程度上解释了实验上WZ结构的GaAs纳米线存在的合理性。7.不同结构的GaAs纳米线表面悬挂键与结合能研究。建立了六种ZB、WZ结构GaAs纳米线的模型,分析了悬挂键与纳米线直径的依赖关系。结果表明：当ZB1型、ZB2型纳米线直径超过20.6nm和21nm时,其表面悬挂键密度与体材料表面接近,而WZ1型、WZ2型纳米线直径则需超过130.9nm和41.9nm时,：悬挂键密度才接近于理想固体表面。利用第一性原理计算了五种六面体结构纳米线的结合能,分析表明：结合能随直径的增加而增加；WZ和ZB结构纳米线的结合能曲线存在交点,小直径下WZ结构的结合能较高。