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本文在总结目前光伏材料研究进展的基础上,对太阳电池用硅锗基薄膜材料进行了实验设计与研究,采用射频磁控溅射方法在石英玻璃衬底上分别沉积了硅锗单层及多层薄膜,并对薄膜进行了退火处理,利用台阶仪、XRD、Raman、SEM、EDS、UV-Vis和划痕仪等测试手段对薄膜的结构、表面形貌、表面成分、光吸收性能及力学性能进行了表征和研究。首先研究了溅射气压、溅射功率、衬底温度等溅射参数对硅锗单层薄膜的厚度、表面粗糙度、结构、表面形貌、成分、光吸收性能及力学性能的影响,发现Si和Ge原子比约为1:1 S