纳米压印技术因其具有高分辨率、高产率、低成本以及工艺简单等优点，可以替代传统的光刻技术，在电子学、光子学、光存储器件及生物应用等方面具有广泛的应用。压印模板是纳米压印技术中一个非常重要的组成部分，传统的纳米压印模板是利用光刻技术或电子束直写技术，通过反应离子刻蚀在硅、二氧化硅或石英材料的基片上制备而成。但是，这种模板具有制备工艺非常复杂、耗时长、成本高、效率低等缺点，因此，纳米压印聚合物模板因其成本低、制备工艺简单和原材料丰富等优点得到了快速发展和广泛应用。本论文基于巯基-烯材料的对氧气或水不敏感、反应速率快、化学性能稳定、低收缩率、原料种类繁多和性能可调控等特性，发展了一类具有低粘度、高分辨率、快速固化、低收缩率和高抗氧气刻蚀性等特性的可用于紫外光固化纳米压印技术的巯基-烯材料;设计了一种结构层材料为巯基-烯紫外光固化纳米压印材料的双层结构纳米压印聚合物模板;基于紫外光固化纳米压印技术高分辨率、工艺简单、室温低压操作条件的特点，发展了一种利用紫外固化纳米压印来制备和检测所设计的新型模板的工艺过程。