本文找到了一种通过湿化学法（包括化学水浴沉积和单分子膜自组装过程）来成功制备很大接触角以及很小接触角滞后的超疏水表面。所有的步骤和过程都非常简单和直接。相对传统的平板印刷刻蚀技术而言这种方法摆脱了对无尘设备的依赖且大大降低了制备成本，同时也表现出了很好的实验重复性。通过这种方法可以在玻璃、硅片、陶瓷以及塑料表面生长微细结构，其特殊优势就是可以不顾表面的形状，也就是说可以在不规则表面甚至凹型表面制得，这是其它方法所不能制得的，这样就扩大了超疏水表面的应用范围，比如能够应用于飞行器、航海器以及其它特殊装置表面。 本文利用场发射扫描电子显微镜、红外、X 射线衍射、接触角测试等分析手段对ZnO 晶体结构的生长机理和分子自组装机理进行了研究。在表面疏水处理对修饰物选择的实验中证实，在中等疏水表面Cassie 与Wenzel 两种状态共存并能在外力作用下发生从Cassie 到Wenzel 状态的不可逆转变。而这一现象并不会在碳链大于16 的脂肪酸修饰的表面出现，可见，在高疏水区，液体不易侵入表面结构而保持表面液滴始终处于Cassie 状态，这是制备超疏水表面的理想物质。