大气压非热平衡等离子体射流（APNP-Js）因其具有丰富的化学活性粒子、温度低以及灵活的操作过程等优点,广泛应用在生物、材料表面改性、表面去污和沉积等领域。为了更好地对实验室等离子体以及工业等离子体实行过程控制,对于等离子体的诊断就显得很有必要。此外,大气压下等离子体化学气相法制备二氧化硅因其在大气压中制备所具有的简便、节省等优势,引起广泛关注。本文在等离子体射流的诊断以及化学气相法制备二氧化硅两个方面均进行了相关的实验研究。在大气压等离子体诊断方面,在只有一个接地铜环的介质阻挡放电氦等离子体射流中,利用介质阻挡探针测量了介质层外射流轴方向上的电子密度,同时还根据施加电压测量了它们随之变化的关系。结果显示,电子密度值大约为10¹¹cm^-3,施加电压增大,电子密度随之增大。另一方面,利用双辅助接地极介质阻挡放电装置,测量了介质管内的射流电子密度、等离子体子弹速度以及分别在辉光和丝状放电模式下离子与中性粒子的碰撞频率。在辉光放电模式下,电子密度值大约为10¹¹cm^-3,等离子体子弹的速度约为10⁴m/s,径向方向离子与中性粒子的碰撞频率约为10⁷Hz,而轴向方向的离子与中性粒子的碰撞频率约为10¹⁰Hz。在丝状放电模式下,径向方向离子与中性粒子的碰撞频率约为10⁸Hz。在这个过程中,不需要额外的诊断设备,直接采集三个接地极的电流波形信息,通过相关的一些公式推导就可以得到等离子体射流的微观参数,这是非常方便的。在大气压等离子体制备二氧化硅（SiO₂）粉体的研究中,将六甲基二硅氧烷（HMDSO）作为制备源,利用化学气相法,通过射频容性耦合放电制备出乳白色的粉体,该粉体的X射线衍射（XRD）结果表明其主要成分为非晶态的SiO₂。此外,还利用低频（0.5kHz²0kHz）高压介质阻挡放电装置来制备SiO₂,并利用纳米粒度分析仪（Nanotral Wave）粗略地探究了其粒径分布,测量得到的SiO₂粒子粒径大约在微米量级,当粒子的浓度增大时,粒径也会变大。