功能材料聚硅烷的合成表征与应用

来源 :南京师范大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dylwq
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聚硅烷是一种主链由硅原子组成的高分子材料。由于Si的低电负性并具有3d空轨道,因此σ电子可沿着Si-Si主链广泛离域,从而使聚硅烷具有光电导、三阶非线性光学、光致发光和电致发光等一些特性,在光电导、发光二极管、非线性光学材料等方面有广阔的应用前景,这也是它引起人们广泛关注的重要原因。 用武兹缩合反应合成了四个系列共十九种聚硅烷。利用红外、核磁、紫外和凝胶色谱对其结构、组成和分子量进行表征,测试了它们的荧光性能,其中一些聚硅烷具有较好的光致发光性能。 研究了聚硅烷的光化学性质,用254nm和365nm的紫外光照射三种类型的聚硅烷溶液,并用紫外吸收光谱对其进行了分析。实验表明:随着紫外光照射时间的增长,二烷基聚硅烷的紫外吸收峰减弱,烷基芳基聚硅烷的紫外吸收发生蓝移,而蒽基改性的聚硅烷其紫外吸收在照射前后几乎没有变化;并且两种波长的紫外光相比,用365nm的紫外光更易使聚硅烷降解。 对聚硅烷的合成方法进行了一些探索,选择改良的格氏试剂法制备聚硅烷。与传统的武兹缩合法相比,反应条件更温和,试剂危险性不高。 初步研究了聚硅烷的电致发光,选择三明治的双层结构,制成了电致发光器件。
其他文献
本论文系统研究了化学镀Ni-P的工艺和复合镀Ni-P-PTFE、Ni-P-SiC的工艺。在复合镀工艺中,采用双络合剂、双加速剂来提高镀速和稳定镀液。然后在此基础上,成功获得了Ni-P-PTFE-SiC化学复合镀工艺,着重研究了SiC,PTFE的添加量对镀层沉积速度和镀层中各种物质的百分含量的影响。研究结果表明,SiC添加量为10~20g/1,PTFE添加量为5~20ml/1时,所得镀层沉积速度较大