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该论文采用直流磁控溅射方法制备TiNi形状记忆合金薄膜,使用广角X射线衍射和小角X射线散射方法,借助原子力显微镜和扫描电子显微镜研究了TiNi形状记忆合金薄膜的晶化激活能、晶粒的形核和长大过程以及加热衬底可以降低薄膜晶化温度的机理,并对带衬底的复合膜进行了拉伸实验,对TiNi复合膜在形变过程中应力诱发的R相变和位错密度随应变的变化进行了讨论.