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Nd：YVO4晶体是一种性能优良的激光基质晶体，具有低激光阈值、高斜率效率、大的受激发射截面，在很宽的波长范围对泵浦光有较大的吸收、高抗光伤能力、良好的机械、物理性质、大的双折射率等特点，可以用来制作光隔离器、环状镜等偏振器件，也适于制作激光二极管(LD)泵浦的全固态激光器，有着广阔的应用前景和实用价值。
本论文研究利用脉冲激光沉积技术(PLD)在SiO2/Si、熔石英、玻璃和Al2O3衬底上制备Nd：YVO4薄膜，主要内容概括为：
1.在玻璃、熔石英、Al2O3，SiO2/Si衬底上成功地制备出具有择优取向的Nd：YVO4多晶薄膜。
2.研究了温度对玻璃、熔石英、SiO2/Si衬底上生长Nd：YVO4薄膜的影响，找出了a轴取向Nd：YVO4薄膜的生长条件。
3.研究了改变氧压对Si/SiO2衬底上制备Nd：YVO4薄膜的影响，找出了适宜a轴Nd：YVO4薄膜生长的氧压条件，并尝试生长C轴取向的Nd：YVO4薄膜。
4.研究了激光重复频率对生长Nd：YVO4薄膜的影响，结果表明激光重复频率仅与薄膜的生长速率有关，对其他薄膜参数没有影响。
5.试验在Al2O3衬底上生长Nd：YVO4薄膜，初步研究了不同衬底对生长Nd：YVO4薄膜的影响。
6.使用X射线衍射仪、环境电子扫描显微镜(ESEM)对Nd：YVO4薄膜的结构和表面形貌进行分折和表征。XRD衍射图中衍射峰半高宽(FWHM)和环境电子扫描显微镜(ESEM)照片表明在优化条件下生长的Nd：YVO4薄膜结晶质量良好，表面颗粒分布均匀。
7.使用光波导测量仪测量Nd：YVO4薄膜的光学性质。测量结果说明TE、TM模式的导波可以在薄膜中传导，证明制备的Nd：YVO4薄膜有着良好的光波导性质。
8.利用光谱分析仪测量得到的薄膜吸收曲线表明了薄膜与晶体块材吸收特性的差异。
研究结果表明a轴取向的M：YVO4光波导薄膜能成功生长在SiO2、熔石英、SiO2/Si、Al2O3等衬底上，其适宜生长条件随衬底的不同而有变化，生长得到的薄膜拥有良好的结晶质量和光学性能。下一步的研究目标是找出C轴择优取向Nd：YVO4薄膜的适宜生长条件。