高分子形状记忆材料由于其广泛的应用,近年来发展迅速,成为高分子领域研究的热点。在热响应形状记忆高分子材料的基础上,人们相继开发出了对电、磁、光、溶剂等刺激响应的高分子形状记忆材料。其中,光致形状记忆材料由于具有良好的可控性及室温操控性能,引起了各国科研工作者的广泛关注。本论文将螺吡喃掺杂到乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)中,成功制备了一种新型的紫外光响应的形状记忆膜材料。当形变在80%以下时,这种膜材料具有良好的光致形状记忆性能。通过核磁共振谱仪(NMR)、傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、示差扫描量热法(DSC),偏光显微镜(POM)、X射线衍射(XRD)、热机械分析仪(DMA)、紫外可见吸收光谱(UV-Vis)等仪器测试手段,对螺吡喃/EVA复合膜材料形状记忆效应的机理进行了研究,我们得到以下几个结论：(1)螺吡喃掺杂EVA膜经紫外光辐照后模量下降,呈现增塑效应。紫外光照下螺吡喃由闭环体(SP)转变为开环体(MC),这些开环体MC削弱EVA分子间相互作用,便利EVA的非晶区链段运动,使形变回复。(2)利用螺吡喃掺杂EVA的光致增塑效应,制备光致形变材料,在形变量小于80%时,显示出良好的形状记忆效应。化学交联不能提高螺吡喃掺杂的EVA膜材料形状记忆性能。