【摘 要】
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铜镀层以良好的导电性、导热性、低硬度、易于抛光和电极电位较正等一系列优点，被广泛用于印刷电路板、钢铁件、铜合金件、锌压铸件、塑料制品的中间镀层和防护镀层。传统的氰化镀铜存在镀液有毒、废液难处理等缺陷。现存无氰镀铜无法实现常温电镀，而且镀层的结合强度差、孔隙率多。经检阅和分析发现现有无氰镀铜的研究多局限在工艺的研究，而电源类型多为直流电镀，对于改进无氰镀铜电镀电源的研究有待进一步完善。本课题以此为切
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铜镀层以良好的导电性、导热性、低硬度、易于抛光和电极电位较正等一系列优点，被广泛用于印刷电路板、钢铁件、铜合金件、锌压铸件、塑料制品的中间镀层和防护镀层。传统的氰化镀铜存在镀液有毒、废液难处理等缺陷。现存无氰镀铜无法实现常温电镀，而且镀层的结合强度差、孔隙率多。经检阅和分析发现现有无氰镀铜的研究多局限在工艺的研究，而电源类型多为直流电镀，对于改进无氰镀铜电镀电源的研究有待进一步完善。本课题以此为切入点，提出了常温下通过研究电源的作用形式和控制方式来改善镀层性能，并针无氰镀铜工艺制备要求，确定
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