NiTi形状记忆合金已在医学界得到广泛应用,然而其Ni离子的析出可能会对人体产生较大危害。如何有效抑制Ni离子的析出是目前国内外研究的一个难题。本文巧妙地采用低氧分压法在NiTi合金表面原位形成TiO2膜:首先采用不同体积比的H2/H2O在高温下获得了低氧分压,再利用Ti、Ni元素在高温下与氧亲和力不同的特点,在NiTi合金表面形成了不含Ni元素的氧化膜。主要研究结果如下:　　通过研究制备温度、时间和氧分压等对NiTi合金表面膜影响,获得了制备可抑制Ni离子析出的TiO2膜最佳工艺。采用SEM、EDS、XRD等仪器对制备出的薄膜进行分析,发现氧化膜主要由TiO2组成,随氧化温度的升高,氧化膜厚度增加;H2/H2O体积比对氧化膜厚度有明显影响。氧化膜富含Ti元素,几乎不含Ni元素。表面膜中的Ni含量随处理温度升高、保温时间延长、氧分压升高而降低。采用划痕仪、电化学工作站、接触角测量仪等测试了膜性能,采用原子发散光谱仪测定Ni离子在0.9%NaCl溶液中的析出量,结果表明,低氧分压法可以制备出致密度高、与基体结合强度高、耐腐蚀、疏水性好的TiO2膜,这种膜能有效抑制Ni离子的析出,抑制率可达到89%～100%。