材料表面微纳结构的制备在现代材料制备领域逐渐成为人们感兴趣的一个新课题。不同的表面微纳结构能够赋予材料特殊的性能,诸如浸润性、光学性质等等。为了制备具有不同性质的微纳结构,人们研究出多种方法用于材料表面微纳结构的构筑(高能粒子束直写、刚性刻针直写等)。其中一种以有序排列的胶体晶体为模板,在材料表面制备有序的微纳结构的方法引起研究者的广泛关注。这种基于胶体晶体的刻蚀方法可以制备多种形态的微纳结构,包括柱状、三角、锥状等。而随着研究的不断进行,人们不再满足于单纯的微纳结构的制备,通过在材料制备过程中引入功能型材料,如功能高分子、贵金属膜等,使材料具备更加多元化的性能。而这种功能型的材料表面微纳结构的构筑成为了近年来研究者们很感兴趣的研究的方向之本文以二氧化硅为掩板,利用各向异性等离子体刻蚀技术对光固化树脂薄膜进行选择性刻蚀,制备了微纳级别的顶端带凹陷的柱状结构。通过在材料表面蒸镀金的方法得到了含金纳米碗的柱状结构阵列。这种光固化树脂柱状结构的高度是可控的。随着柱状结构高度的增加,顶端金纳米碗结构与底部的金膜距离逐渐增大,材料的透射特征峰从500nm红移至760nm。同时,我们运用时域有限差分方法对这种结构的电场分布进行了模拟,发现所制备的结构顶部的电场分布与文献报道中金纳米碗结构的场分布相似,在金纳米碗结构底部和边缘处都存在较强的电场分布。同时,为了探讨这种随结构变化而引起的光学性质的变化的原因,我们以二次刻蚀的方法制备了金包覆二维光固化树脂柱状结构阵列。研究表明这种由于柱状顶端的结构与柱状结构间隙的距离增加是引起光谱迁移的主要原因,而为了引起较大的光谱变化,柱状结构顶端的结构需要具备与底部金膜不同的透射特征峰。这种由材料表面微纳结构尺度变化而引起的材料光学性质的变化,在传感器、微型光学元件等领域有着潜在的应用价值。