化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石涂层拉伸模具具有天然钻石模具的光洁度、聚晶金刚石模具的耐磨性和硬质合金模具的抗涨性,是新一代极具竞争力的拉拔模具。然而到目前为止,对于CVD金刚石涂层拉伸模具内孔抛光的有关研究未见报道。本文开展了拉伸模具内孔CVD金刚石薄膜的抛光技术研究,主要内容包括装置的研制、机械抛光工艺研究和化学机械抛光工艺研究三个部分。具体研究内容及结论如下:(1)在对专用抛光装置研究基础上,采用模块化的设计思想,对模具夹具及传动模块、抛光头及其传动模块、电磁感应加热模块、抛光装置床身模块等进行了设计,加工和选购所需零部件并进行了组装和调试,研制成功了拉伸模具内孔CVD金刚石薄膜涂层的专用抛光装置。(2)对于机械抛光工艺研究,发现:依次采用自制的含有不同金刚石颗粒的抛光头对金刚石涂层进行粗抛和半精抛,其Ra在抛光初始阶段下降较快,后续下降较慢,并趋于平缓;适当增大模具转速,涂层在单位时间内被金刚石抛光头微切削的次数增加,涂层表面的尖峰会更快的被削平,抛光效率提高;适当增加抛光载荷,涂层表面的晶粒受到更大的剪切力,晶粒也就越易破裂和脱落,抛光效率也得到提高;采用优选的机械抛光工艺,对初始粗糙度为4.1 um的金刚石涂层经过1.5h的粗抛光、3h的半精抛光后,表面粗糙度可达到0.085 um。(3)对于化学机械抛光工艺研究,发现:分别用碳化硼铜和碳化钨铜合金复合抛光头对金刚石涂层进行化学机械抛光,硬度较高的碳化硼铜合金复合抛光头抛光效率较高;适当提高模具温度可以加快金刚石涂层石墨化的过程,提高抛光效率,但温度过高,会减弱化学机械抛光中的机械作用;采用优选后的化学机械抛光工艺,初始粗糙度为0.085 um的金刚石涂层经过4h的化学机械抛光后,表面粗糙度可达到0.028 um。