本文以纯铝为基体材料,利用自制的WH-1A型微弧氧化设备对试样表面进行微弧氧化处理,研究了:添加剂六偏磷酸钠对微弧氧化电压以及微弧氧化膜层的物相组成、膜层形貌及结构的影响;利用两步法,还研究了微弧氧化膜层的生长机理;此外还研究了超声波作用下微弧氧化初期膜层的生长机理。研究结果表明:添加剂六偏磷酸钠的加入提高了微弧氧化所需电压,有利于促进硅酸盐更多的参与成膜形成莫来石相;同时,六偏磷酸钠促进厚度的增加,表面粗糙度增加;硅酸盐电解液中膜层/基体界面处的膜层形貌是破碎的小球状形貌,而添加六偏磷酸钠有利于促进膜层/基体界面处的膜层形貌由破碎的小球状形貌变为完整的小球状形貌;随着微弧氧化时间的延长,膜层向内向外生长界面的不均匀程度均增加,膜层向内生长主要依赖于膜层内大空腔处的击穿放电,而膜层的致密区可以在长达20min的时间内不发生向内生长,该区域的增厚多依赖于膜层的向外生长。微弧氧化初期,超声波对微弧氧化过程中的电压并无明显影响,且对膜层物相的种类及含量也影响甚小;超声波作用使得膜层的表面放电、物质沉积更均匀,膜层的断面显示膜层的厚度生长也更均匀,膜层中孔洞类的缺陷减少,但是超声波也使得膜层中留下了较多的裂纹;电化学结果显示,超声波作用时微弧氧化膜层变得均匀,尤其是膜层/基体界面均匀的向内生长极大的增强了膜层的耐蚀性,但是膜层中留下的较多裂纹缺陷也降低了膜层的外层电阻。