【摘 要】
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磁控溅射MoS_2薄膜被广泛应用于空间飞行器活动部件,但目前关于低能质子辐照对磁控溅射MoS_2薄膜微观组织结构的影响机制的研究相对较少。本文分别借助扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、透射电子显微镜(TEM)等多种手段对低能质子辐照后磁控溅射MoS_2薄膜的微观组织结构进行分析;利用轮廓仪和销盘式摩擦磨损试验机对辐照前后薄膜的粗糙度以及摩擦磨损性能进行
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磁控溅射MoS_2薄膜被广泛应用于空间飞行器活动部件,但目前关于低能质子辐照对磁控溅射MoS_2薄膜微观组织结构的影响机制的研究相对较少。本文分别借助扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、透射电子显微镜(TEM)等多种手段对低能质子辐照后磁控溅射MoS_2薄膜的微观组织结构进行分析;利用轮廓仪和销盘式摩擦磨损试验机对辐照前后薄膜的粗糙度以及摩擦磨损性能进行测试。研究结果表明,经质子辐照后,磁控溅射MoS_2薄膜内会产大量的缺陷,随着辐照注量的增大MoS_2薄
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