微弧氧化技术是一项全新的绿色环保型材料表而处理技术,在工业上具有广阔的应用前景。经过微弧氧化处理后可得到一层致密的氧化陶瓷膜,可以极大地提高膜层的综合性能。微弧氧化膜具备优良的性能,与基体合金结合牢固,具有较好的耐蚀和耐磨等性能。但是,当微弧氧化膜较薄,会出现膜层薄厚不均匀的现象,会严重影响膜层的综合性能。本文以MB8镁合金为研究对象,通过向电解液中通入定量氧气来提高微弧氧化膜层的均匀性。利用回归分析来研究各项微弧氧化工艺参数,如电解液浓度、交流电压、氧气喷入量以及处理时间等因素对氧化膜层厚度不均匀度的影响规律,得知它们之间存在着非线性关系。通过向电解液中喷入氧气,利用其形成的大量氧等离子体,并在各项优化的工艺参数下可以得到一层均匀性很好的微弧氧化膜层。通过SEM、XRD等技术来观察分析微弧氧化膜层的微观形貌特征和相组成,从分析结果可知,微弧氧化膜层表面存在许多的微孔,膜层主要由MgO、MgF2相组成。本研究可以极大地提高镁合金微弧氧化膜层的均匀性,并通过优化工艺参数来提高膜层的各项性能,为镁合金微弧氧化技术的应用奠定了基础。