三种光学薄膜质子和电子辐照着色效应研究

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【摘要】

：

本文利用带电粒子辐照设备,对以真空物理沉积方法镀制在石英玻璃基片上的MgF_2、ZrO_2和Al_2O_3三种典型增透膜材料分别进行了60keV电子和质子的辐照试验,总结了三种光学薄膜透过率随辐照注量的退化规律;在光学材料辐照色心理论基础上,用吸收光谱解析和荧光光谱等方法研究了质子和电子辐照条件下每种薄膜内部形成的吸收带数量及其对应的色心种类。电子和质子辐照不影响材料的晶体结构,但对材料具有着色效

【作者】

：

程文广

【机构】

：

哈尔滨工业大学

【发表日期】

：

2010年07期

【关键词】

：

镀膜材料电子和质子着色效应色心吸收带

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