表面等离激元增强磁光效应研究

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近年来,表面等离激元共振(SPR)效应在信息通讯、医药化学、生物传感等领域广泛应用。微纳加工技术的成熟使得研究人员可以在磁光薄膜表面设计更多纳米结构,利用金属纳米结构表面等离激元效应增强磁光性能,从而拓展了磁光器件的应用范围,开辟了磁光表面等离激元(MOSPR)研究方向。除了利用SPR性质增强磁光性能外,通过控制外磁场的大小和方向同样能够调控MOSPR的相关性质。因此,对MOSPR器件的详细研究十分必要。相较于金属磁光材料,介质磁光材料具有低损耗、高磁光性能的优势,从而用于制备信息通讯频率下的磁光隔离器、磁光调制器等设备。传统的纳米制备技术具有成本高、效率低的特性而阻碍了表面等离激元器件的研究。针对以上问题,本文通过PS纳米小球自组装法在Ce:YIG/YIG/Si多层膜结构上制备了六方周期Au纳米孔洞MOSPR器件,利用Au纳米孔洞周期结构的倒格矢使自由空间的光波矢与SPP波矢进行匹配,从而直接激发孔洞结构表面SPR。COMSOL软件的仿真近场分析表明MOSPR器件的两个SPP模式源于Au和上下介质之间产生的耦合模式,其横向磁光克尔效应(TMOKE)增强主要源于纯光学效应。基于该MOSPR器件的牛血清白蛋白(BSA)传感实验表明TMOKE光谱的传感优值比SPR传感优值高出一倍。同时,利用电子束光刻(EBL)系统在Ce:YIG磁光薄膜表面制备了开口谐振环(SRR)超表面结构,并通过椭偏仪测试了样品的反射光谱。研究了入射光偏振状态改变对反射光谱的影响,其磁共振的激发条件为入射光电场偏振方向垂直于SRR结构开口,根据LC振荡电路模型解释了磁共振模式峰位的变化。利用COMSOL对SRR结构的电共振和磁共振模式进行近场分析,发现磁共振条件下SRR结构开口处出现较强的场局域效应,同时会产生垂直于面内的感应磁场。SRR结构磁光超表面在增强磁光效应和磁场调控超表面性质方面具有很高的研究价值。
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