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用射频溅射方法和热处理在ITO透明导电薄膜上制备了钙钛矿型PZT铁电薄膜,研究制备过程中参量的选择与铁电薄膜性能的关系.结合XRD,XPS,SEM等测试手段,对薄膜的形成过程,薄膜的表面形貌,以及薄膜的铁电性能进行了测试.
射频溅射PZT铁电薄膜性能研究
【摘 要】
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用射频溅射方法和热处理在ITO透明导电薄膜上制备了钙钛矿型PZT铁电薄膜,研究制备过程中参量的选择与铁电薄膜性能的关系.结合XRD,XPS,SEM等测试手段,对薄膜的形成过程,薄膜
【机 构】
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兰州大学
【出 处】
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兰州大学
【发表日期】
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1998年期
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