该论文主要是将高分辨电子显微学与衍射晶体学相结合的图像处理技术应用于测定晶体中轻原子位置的研究,并发展、完善该电子晶体学图像处理的技术.论文的主要内容有:研究了最大熵解卷中电子光学参数的误差对解卷结果的影响,发现当这些参数存在误差时,由最大熵解卷得到的离焦量会相应地偏离真实离焦量来补偿这种误差效应,从而使得解卷像仍能够正确反映样品结构.研究了最大熵解卷中出现的电势负区问题,对前人处理该问题的方法作了重要改进,完善了最大熵解卷处理技术.应用电子晶体学图像处理方法研究了(Y<,0.6>Ca<,0.4>)(SrBa)(Cu<,2.5>B<,0.5>)O<,7-δ>晶体中的硼原子位置.为了确定替代部分铜原子的硼原子位置,提出了一种建立两种可能模型来分别对实验电子衍射强度进行校正,并根据校正后的电子衍射数据用于相位外推的结果好坏来判断真实结构模型的方法.用该方法确定了晶体中硼原子是在Cu-O链的铜原子位置.利用模拟电子衍射数据也进一步证实了这种方法的有效性.对GaN完整晶体和含N原子空位缺陷晶体的模拟场发射高分辨像进行解卷处理,在得到的解卷像上能够分辨间距为1.12A的Ga-N原子对,并得到了N原子空位的缺陷结构.同时也讨论了实验中对离焦量和晶体厚度的要求以及断尾效应对解卷结果的影响.编写了最大熵解卷和电子衍射强度校正程序.