交叉相位调制(XPM)不稳定性是指当两束或多束不同波长的光波在介质中传输时,由于光束之间的非线性效应发生相互作用会产生一些调制不稳定现象。XPM所引起的脉冲压缩、光开关和非互易性等效应已经在光通信器件中获得应用。超常介质特别是左手材料在2000年被制备出来,由于它的介电常数和磁导率同时为负,具备一般材料没有的突出性能,吸引了许多国内外研究学者的关注。而且超常介质中的电磁特性都是色散的,这使得常规介质中的一些理论在超常介质中不再适用。因此,在超常介质中研究交叉相位调制的不稳定性是十分必要的。影响调制不稳定性的主要因素是非线性效应和色散。在常规的非线性材料中对调制不稳定性的研究已经很完善,但在超常介质中对于双光束传输中的交叉相位调制还停留在研究低阶群速度色散和低阶非线性项,缺乏对高阶群速度色散和高阶非线性项等方面的深入研究。因此,有必要进一步研究超常介质中高阶色散和高阶非线性对交叉相位调制不稳定性的影响。论文从扩展的耦合非线性薛定谔方程组出发,基于超常介质中无损耗的Drude色散模型,通过研究两束同向传输的光波在具有高阶色散和三、五阶非线性的超常介质中的传输,推导得出在群速度色散和三阶色散都不相等和两者都相等的情况下,由交叉相位调制引起的调制不稳定性(XMI)的增益公式。并进一步通过MATLAB仿真着重分析了高阶色散项对XMI的产生和其增益谱的影响。本文的创新点：(1)在超常介质中研究交叉相位调制中的调制不稳定性,首次同时考虑高阶色散和高阶非线性效应的影响；(2)运用分离变量的方法逐个分析高阶色散系数对调制不稳定性的增益谱的影响。