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层状结构的WS_2在真空环境下具有摩擦系数低、耐磨性能好等优点,因此被广泛应用于机械加工和航天航空等领域中。但是纯WS_2薄膜结构疏松、硬度低、结合力差,在潮湿大气中容易氧化潮解,从而限制了其实际应用。为了改善WS_2薄膜在潮湿大气环境下的润滑性能,越来越多的学者开始研究多层膜。WS_2/C复合薄膜结构致密,能够在潮湿大气中保持良好的摩擦性能,而多层膜设计能够缓解膜层的内应力和界面应力。本文采用磁控溅射沉积技术交替溅射WS_2靶和石墨靶,在单晶硅片上制备调制周期为20 nm的WS_2/C多层膜,研究