氩气低温常压等离子体处理对二硅酸锂玻璃陶瓷粘接性能影响的研究

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全瓷修复体因其出色的美学效果,稳定的物化性能,良好的生物相容性,不干扰核磁共振检查等优点在口腔修复领域广泛应用。其中,二硅酸锂玻璃陶瓷是牙科常用玻璃陶瓷材料之一。修复体在临床应用中成功与否的关键在于瓷与粘接剂之间的粘接是否可靠牢固,而表面预处理是影响玻璃陶瓷粘接效果的重要因素。等离子体含有大量高活性粒子,用于处理长石质陶瓷时可在不改变其表面形貌的情况下有效提高其表面亲水性,进而改善陶瓷的粘接效果。本课题拟采用氩气低温常压等离子体(以下简称等离子体)处理二硅酸锂玻璃陶瓷,探索该项技术对二硅酸锂玻璃陶瓷粘接性能的影响。XPS分析结果显示,与空白对照组相比较,等离子体处理后的二硅酸锂玻璃陶瓷表面氧元素原子含量明显增加,氧/碳比升高,Si-O-基团含量明显增加。XRD分析结果显示,经过等离子体处理后二硅酸锂玻璃陶瓷表面晶相结构无明显改变。AFM结果显示,经过等离子体处理后二硅酸锂玻璃陶瓷表面微观形貌无明显改变。该研究证明,氩气低温常压等离子体处理可显著提升二硅酸锂玻璃陶瓷表面亲水性,联合使用硅烷偶联剂可有效改善二硅酸锂玻璃陶瓷与树脂粘接剂间粘接强度,可达传统氢氟酸酸蚀法处理的水平,并且不会显著改变二硅酸锂玻璃陶瓷表面晶相结构和微观形貌,为该项技术在临床二硅酸锂玻璃陶瓷粘接流程中的应用提供理论依据。
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