不同抛光磨头对爱尔创氧化锆抛光后表面粗糙度及形貌的比较

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目的:本实验通过模拟临床牙冠调磨、椅旁抛光流程,从表面粗糙度、表面形貌两个方面研究不同的抛光工具对爱尔创氧化锆抛光后表面光泽度的影响,从而为临床氧化锆修复体的抛光程序提供指导性建议。方法:1.制备30块体积为10mm×10mm×5mm大小的爱尔创氧化锆标准试件,选10mm×10mm的面作为实验面。按照技工室制作氧化锆全冠流程,出厂前将所有试块抛光、烧结上釉。上釉后试件随机挑选5块定为A组,A组为空白对照组,即上釉后不做任何处理。2.其余25块试件均用道邦绿色砂石打磨,以模拟临床戴冠时的调磨操作。打磨后随机分成5组(B组、C组、D组、E组、F组),每组5个试件。B组为阴性对照组,即打磨后不做其他处理;C组为道邦粗抛光组,D组为道邦粗抛+精细抛光组、E组为松风粗抛光组、F组为松风粗抛+精细抛光组。3.测试各组试件抛光处理后的表面粗糙度Ra值并进行单因素方差分析、两组间的比较采用LSD-t检验。4.将各组值与文献中已有的天然牙的粗糙度值进行比较。5.使用扫描电镜观察每组试件处理后的表面形貌,并进行对照比较。结果:1.表面粗糙度Ra值:A、B、C、D、E、F组的Ra值分别为(0.18±0.04)、(1.17±0.08)、(0.52±0.06)、(0.45±0.08)、(0.22±0.04)、(0.20±0.03)μm。A组Ra值最小,与B、C、D组相比差异均具有统计学意义(P<0.05)。B组Ra值最大,C、D、E、F组Ra值依次减小,B组与C组、D组、E组、F组,相互比较差异均具有统计学意义(P<0.05)。C组与E组、F组相比差异具有统计学意义(P<0.05)。D组与E组、F组相比差异具有统计学意义(P<0.05)。其中,A组与E组,A组与F组Ra值相比差异没有统计学意义(P>0.05),C组与D组,E组F组Ra值相比差异没有统计学意义(P>0.05);2.从现有文献中查得,轴面牙釉质Ra参考值为0.36±0.043μm;咬合接触区的牙釉质Ra值为0.64±0.250μm。A、E、F组Ra值小于轴面牙釉质Ra值;A、C、D、E、F组Ra组小于咬合接触区牙釉质Ra值。B组Ra值明显大于牙釉质的Ra值。3.SEM观察结果:A组表面光滑平整,未见划痕;B组表面有深大划痕和凹坑缺陷;C组与D组划痕变细,数量较少;E组划痕均匀一致,变细变浅,凹坑变少;F组划痕最少,划痕变短,细腻平整。SEM结果与表面粗糙度测试结果具有较好的统一性。结论:1.调磨后不同系统的氧化锆抛光磨头对爱尔创氧化锆抛光效果不同。抛光效果排序:松风粗抛+精细抛光组>松风粗抛光组>道邦粗抛+精细抛光组>道邦粗抛光组。2.四组抛光组效果均好于天然牙的咬合面粗糙度,不会造成对颌牙的过度磨耗。3.上釉和松风组低于天然牙轴面粗糙度,可以推论不会高于天然牙的细菌粘附。4.只调磨不抛光组Ra值明显大于牙釉质咬合面和轴面Ra值,所以只调磨不抛光既会加重天然牙磨耗又会增加细菌附着。
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