环境污染和资源短缺一直是制约社会可持续发展的关键问题。对于现有的污水处理工艺进一步创新并探索其对环境中新兴污染物的去除已成为近年来水资源管理领域的研究热点。膜分离技术在污水处理中有着广泛应用,现已逐步发展为完善的工艺体系,然而随之而来膜污染问题仍亟待解决。另外,膜技术对于新兴污染物如抗性基因的去除效果仍未可知。因此,本文基于功能性纳米材料膜修饰技术,分别对微滤及超滤膜进行一系列表面修饰,并将其应用于抗性细菌及抗性基因的去除。通过对光催化材料及抗菌材料的共修饰提升了膜的抗污染能力并提高了膜通量再生性能;通过构建光催化膜过滤系统对二级出水进行深度处理实现了对抗性细菌及抗性基因的有效截留并去除。主要研究内容和结果如下:1、选择PDA作为中间层,在PES微滤膜表面原位生成AgNPs;之后再PDA的活性基团作用下,将Ti02修饰于膜表面。利用SEM分析膜表面修饰前后形貌变化,证明修饰后Ag与TiO2成功修饰。Ag与TiO2纳米材料的引入使膜亲水性、水通量有了较大的提高,抑菌性能也明显体现,两者的协同作用使膜具有抗污染能力与自清洁能力。2、构建了光催化反应性膜系统并应用于对抗性细菌及抗性基因的去除。在PVDF超滤膜上修饰Ti02材料,研究膜截留及光催化降解过程对于抗性细菌及抗性基因的去除。修饰后膜对于细菌及抗性基因截留及去除能力都有一定提升,TiO2-PDA/PVDF膜能够实现99.9%的细菌去除。通过对实际水体中抗性基因及抗性细菌分析发现,位于基因组上的抗性基因更容易被截留并在光催化过程中其降解效率也相对较高。对水体中的整合子的去除结果证实构建的膜系统能够有效抑制水体中ARGs的水平转移。