目的:建立SD大鼠面颌肌体外培养模型,观察正畸用钕铁硼稀土永磁体所产生的静磁场对体外培养的SD大鼠面颌肌细胞生物学特性的影响,从细胞和分子水平观察磁场对肌细胞内钙离子浓度和钙离子通道的作用,探讨肌细胞在磁场作用下生物学效应的机理。方法:选用新生2～3d龄SD大鼠颌面部咬肌区肌肉组织来源,在体外分离、培养并纯化,建立SD大鼠面颌肌细胞有限细胞系。用静磁场加载装置对第三代SD大鼠面颌肌细胞进行1d,2d,3d,4d,5d处理,倒置相差显微镜下观察培养细胞的生长状态,拍照记录生长情况;用比色法测定ATP酶活性;用Fluo-3负载SD大鼠面颌肌细胞后,分别用流式细胞仪和激光共聚焦显微镜技术测定胞内钙离子浓度。结果:SD大鼠面颌肌细胞在静磁场中生长适应性良好,与以往本课题组的实验结果一致。实验组经静磁场作用后,细胞内钙离子浓度轻度升高,但与对照组无统计学差异。磁场作用3天后细胞内Ca²⁺-ATP酶活性增强。结论:正畸用磁铁对SD大鼠面颌肌细胞无病理性损害作用,细胞在磁场中生长良好,磁场促进了细胞内Ca²⁺-ATP酶活性,维持细胞内钙稳态,行使细胞正常生理功能活动,调节面颌肌细胞的增殖。