传统的铬或铬合金镀层采用六价铬镀液，由于电流效率低并且镀液毒性大等的缘故，已经不能满足当今社会对环保，节能和经济效益的需要，人们希望用三价铬镀液取代六价铬镀液。但三价铬电镀的研究还有待深入，有些问题尚未完全解决，其中最为突出的就是，镀层无法随沉积时间的延长而持续增厚，这使得电镀功能性厚镀层时采用三价铬电镀还很困难。因此，本文在电沉积出镍-铁合金纳米晶的基础上，采用脉冲电沉积的方法研究了在三价铬体系中获得纳米晶铬和铬-镍-铁合金纳米晶厚镀层的工艺及其基础理论，以期解决三价铬镀液完全代替六价铬电镀的难题。 本文首次研究了制备用于电磁屏蔽等领域的电沉积铁-镍纳米晶合金箔和铁-镍-铬纳米晶合金箔的方法；系统研究了各工艺条件对合金成分和电流效率的影响；确定了获得铁-镍合金箔的最优工艺条件为：FeSO₄·7H₂O为52g·l^-1，镍铁离子浓度摩尔比为4.7～5左右，H₃BO₃45g·l^-1，稳定剂Ⅰ的浓度控制在29～34g·l^-1，稳定剂Ⅱ浓度为10g·l^-1，阴极电流密度为5A·dm^-2，温度控制在48～52℃，pH值控制在1.75～2.25；确定了获得电沉积高电阻率铁-镍-铬合金箔的最佳工艺配方为：CrCl₃·6H₂O 20g·l^-1，FeSO₄·7H₂O 65～70g·l^-1，NiSO₄·6H₂O180 g·l^-1，NiCl₂·6H₂O 45g·l^-1，H₃BO₃45g·l^-1，稳定剂Ⅰ25～30 g·l^-1，稳定剂Ⅱ 10 g·l^-1，光亮剂1～5 g·l^-1，润湿剂0.2～0.5g·l^-1。电流密度10～12 A·dm^-2，温度58⁶5℃，溶液pH值2.20～2.50，在上述条件下获得的合金箔厚度在50μm左右，成分均匀、结晶细致、镀层光亮；其中铁-镍合金箔成分为48％～50％Ni，50％～52％Fe，微量的Cr，P与S，B，C；铁-镍-铬合金箔成分为65％～70％Ni，30％～35％Fe，1％～2％Cr和微量的P与S，B，C。实验证明在直流电沉积条件下从水溶液中获得质量优良含Cr量＞2％的三元合金镀层是比较困难的。 本文首次系统的研究了从含Cr³⁺的水／N，N-二甲基甲酰胺（DMF）溶液或含镍、铁、铬离子的合金水／DMF溶液中脉冲电沉积纳米晶铬和铬-镍-铁合金纳米晶厚镀层的方法；系统研究了脉冲电沉积条件下脉冲周期、脉冲工作比、溶液中各主盐浓度、溶液的pH值、电沉积时间等工艺条件对电沉积铬和铬-镍-铁合金的沉积速度、电流效率、合金成分、表面形貌、晶粒尺寸等的影响；电沉积获得纳米晶铬以及纳米晶铬-镍-铁合金镀层都具有镜面光亮的外观，其中的铬-镍-铁合金镀层最厚可以达到80μm以上，较文献报道的厚度要厚；铬-镍-铁合金镀层的成分分别为Cr40％～60％，Ni10％～40％，Fe10％～30％，以及其他一些元素，如S，B，C，O，H等。确定脉冲电沉积获得纳米晶铬镀层的最佳工艺为CrCl₃·6H₂O含量为0.8～1.2mol·l^-1，脉冲周期为100ms，占空比0.3-0.5，电流密度18～20 A·dm^-2，温度为30℃左右，溶液pH值为1.0左右，溶液循环速度保持在1.36～1.98ml·min^-1；获得铬-镍-铁合金纳米晶的最佳工艺条件为脉冲周期为100ms，工作比为0.3～0.5，平均电流密度为18～20A·dm^-2，镀液温度30℃左右，pH值控制在0.9～1.5，在这种条件下脉冲电沉积铬-镍-铁合金的平均沉积速度可以达到3μm·min^-1，电流效率为50％以上。对直流电沉积和脉冲电沉积纳米晶铬和纳米晶铬-镍-铁合金的电流效率、晶体结构、物理和化学性能等进行了比较，结果表明脉冲电沉积获得的纳米晶较直流电沉积获得的纳米晶在各方面都优秀。 通过动电位扫描、计时电流等电化学方法，详细研究了纳米晶铬、纳米晶铁-镍-铬合金箔、纳米晶铬-镍-铁合金在10％H₂SO₄、10％NaOH、3.5％NaCl中的电中南大学博士学位论文摘要化学行为，还用在空气中放置的方法研究了其在空气中的耐蚀性能，并与文献报道的非晶态铬一镍一铁合金的耐蚀性进行了比较，结果表明本文所获得的纳米晶镀层具有优良的耐蚀性，并且具有优良的电催化析氢性能;通过对纳米晶镀层的电阻率和磁饱和度测定，表明纳米晶铁一镍一铬合金箔以及铬一镍一铁镀层具有比常规合金更高的电阻率和磁饱和度，是很好的电磁材料;通过扫描电镜（S EM）对镀层表面形貌的研究，表明镀层结晶细致均匀，镀层光亮，无针孔和微裂纹，晶粒尺寸小于IOOnln，具有很长的晶界，因而耐蚀性优异;由于晶粒尺寸在纳米范围内，因而电阻率和磁饱和度随晶粒尺寸的减小而大幅度提高;通过X一衍射结构分析表明纳米晶具有介于非晶态和晶态的结构，是易于氢析出的（111）织构，而非常规的（220）织构，因此具有较好的电催化析氢能力。 通过电化学方法和光谱方法研究了铬一镍一铁合金镀液的陈化和稳定性，cr3份的配合形态以及电沉积过程中CrZ‘对电沉积的影响结果:通过电位分析研究表明添加剂和稳定剂可以提高合金镀液的缓冲能力;发现在没有稳定剂和添加剂存在的条件下，很难获得质量好的厚铬或厚铬合金镀层，电解液的缓冲能力也很差。 稳态极化曲线研究也表明合适的稳定剂和添加剂使得铬、镍、铁合金电沉积成为可能:用交流阻抗法研究了镍、镍一铁、铬一镍一铁在水心MF溶液中沉积的电化学过程，分析表明镍、镍一铁和?