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类金刚石(DLC)薄膜是二十世纪七十年代发展起来的新型材料,因其在力学、电学、光学和化学等领域所具有许多独特的性质而得到广泛地应用.DLC薄膜用于红外窗口的增透保护膜时,要求必须获得薄膜准确的光学参数,以便进行膜系设计与制备.为此,人们尝试了多种方法来确定薄膜的光学参数.本文对利用磁控溅射和脉冲真空电弧镀技术镀制的DLC膜光学参数进行了测试研究.通过对大量不同工艺镀制的类金刚石薄膜进行拟合处理,得到相应的光学参数,构建了较系统的拟合模型库;用VB编制了模型选用软件;并应用所构建的拟合模型库研究了工艺参数与光学参数的关系;通过求解椭偏反演方程,用模拟退火算法(simulated annealing)求解拟合值,解决了部分模型拟合对初值要求较高的问题.在研究了模拟退火算法原理的基础上提出了改进算法,用Matlab编写了退火程序,并利用该程序对实验室镀制的类金刚膜进行了数据拟合,得到了可靠的结果.研究结果表明:①非平衡磁控溅射模式下沉积薄膜当氩气流量大于160SCCM(标准状态下升/分钟)时,吸收较小,可以用基底+柯西层+粗糙层、基底+柯西层1+柯西层2+粗糙层等模型拟合;当氩气流量小于120SCCM时,吸收较大,可以用基底+洛仑兹层+粗糙层,拟合;脉冲电弧离子镀条件下,可以用基底+混合层+柯西层+粗糙层、基底+布鲁默(F-B)层+粗糙层,拟合;②在退火参数的选取上:a、较合适的初始温度为1500.b、衰减函数T<,k+1>=αT<,k>中的参数α根据不同的接受概率选择了不同的参数,P>0.8时α=0.7;0.8>P>0.3时α=0.9;0.3>P>0时α=0.99.c、每一个温度下的扰动次数L至少应取为300m,其中m代表待求参数的个数.d、终止规则上采用:某温度进行了15次的扰动后,产生的新的结果没有变化或扰动次数达到了设定的马尔科夫链长时进行下一温度;当连续下降5个温度后,得到的拟合参数没有变化或温度达到设定的终止温度终止整个拟合过程.③非平衡磁控溅射沉积的类金刚石薄膜折射率约在1.8~2.4之间;脉冲电弧离子镀沉积的类金刚石薄膜的折射率约在2.4~2.7之间.