MPCVD等离子体发射光谱研究

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等离子体发射光谱诊断是研究微波等离子体参数的有效方法,本文在2.45GHz,800W微波等离子体化学气相沉积装置上,利用发射光谱法对金刚石薄膜制备时的等离子体进行在线诊断,研究了甲烷浓度、工作气压、氮气浓度对等离子体内发射光谱及基团谱线强度的影响。(1)利用发射光谱法对CH4/H2等离子体进行在线诊断,分析了等离子体中存在的主要基团,研究了甲烷浓度(0.5%-7%)和工作气压(10-38kPa)对各基团浓度及基团空间分布的影响。结果表明:等离子体中存在CH, Hα, Hβ, Hγ, C2基团和Mo杂质原子,随着甲烷浓度的升高,各基团发射光谱强度均有增加,其中C2(516.08nm)基团强度显著增加,CH(431.31nm)与Hα(656.19nm)基团的发射光谱强度比值ICH/IC2随甲烷浓度的增加变化不大,而发射光谱强度IC2/I比值随甲烷浓度的增加而显著增大,甲烷浓度的增加还使得等离子体中各基团在空间分布的均匀性变差,并认为甲烷浓度应控制在1%以内;随着气压的升高CH、C2和Hα基团的发射光谱强度先增大后减小,C2和Hα基团的发射光谱强度变化显著,且三条发射光谱谱线强度都在30kPa时达到最大值,发射光谱强度比值IC2/I基本保持不变,发射光谱强度ICH/IC2比值随气压升高迅速减小,当气压达到26kPa时其比值开始保持不变,气压的增加也使得等离子体中各基团空间分布的均匀性变差。(2)利用发射光谱法对CH4/H2/N2等离子体进行在线诊断,分析了CH4/H2/N2等离子体中存在的主要基团,研究了氮气浓度(0-1%)和甲烷浓度(0.25%-7%)对等离子体中各基团浓度的影响,并对加氮和未加氮的金刚石样品进行拉曼表征。结果表明:CH4/H2/N2等离子体中存在CH, Hα, Hβ, Hγ, C2基团和CN(388.04nm)基团,随着氮气浓度的增加,Hα谱线特征峰强度几乎没变,CH谱线特征峰强度小幅减小,C2谱线特征峰强度显著降低,CN谱线特征峰强度呈线性增加,氮气浓度由0到0.1%时,发射光谱强度ICH/ICN、IC2/ICN比值迅速下降,且当氮气浓度继续增加时,它们的强度比值小幅降低,氮气浓度由0升高到1%时,发射光谱强度IC2/I与ICH/IC2比值基本保持不变,认为最佳氮气浓度为0.1%。加入0.2%浓度的氮气,通过改变甲烷浓度的发射光谱研究,认为甲烷浓度可控制在2%浓度范围内。由未加氮气和加0.1%浓度氮气的金刚石薄膜样品拉曼测试结果可知,加氮能明显提高金刚石相含量,有利于高质量金刚石薄膜的制备。
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