《中华人民共和国民法典》第123条第2款明确将集成电路布图设计专有权归入知识产权,但我国关于集成电路布图设计专有权的保护规则并不明晰。首先,对于已经商业化的电路的布图设计,在侵权认定中应当以向知识产权局提交的图样作为布图设计保护范围的依据,还是以向知识产权局提交的样品作为比对依据,亦或以向知识产权局提交的图样的电子版本为界定权利边界的依据,没有明确规定;其次,关于布图设计的独创性方面,未对他人电路进行反向剖析进行再创作的布图设计的独创性作进一步的规定;最后,对于两个布图设计相似度达到何种阈值可以判定二者实质性相似也未给出可行性的判断标准。最高人民法院也未制定相关的司法解释抑或发布相关指导案例。因此,司法实践中没有统一的标准、适用现状混乱。与此同时,理论界对上述问题适用何种标准也没有形成统一的意见。笔者认为,在布图设计专有权侵权纠纷案中,对于集成电路布图设计的保护范围应当以布图设计的图样或者复制件为基本,若涉案复制件或者图样纸件,放大的倍数尚不足以全面、清晰地反映布图设计内容,可委托专门机构对提交的集成电路样品进行反向分析,获取其中的三维配置数据,在其与复制件或者图样中的三维配置信息近似的情形下,可以对复制件或者图样中布图设计的内容进行辅助确认。对于反向剖析他人电路进行再创造的布图设计的独创性认定,可以借鉴美国的文字痕迹标准、功能优化标准以及增益标准。最后,布图设计侵权认定中还有一个非常重要的实质性相似的判断,如何清晰的界定实质性相似判断的内涵和外延亦是一个非常重要的问题,本文主张除了对两个布图设计进行全局以及局部的比较之外再加入技术特征进行交叉验证,以此来判断两种布图设计是否实质性相似。