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基于薄膜材料易于集成化、微型化,在巨磁阻抗效应器件方面有着重大的应用前景,本文采用磁控溅射法制备了FeCuNbSiB/Si02/Cu/Si02/FeCuNbSiB/Si02型复合结构多层膜,利用XRD谱、表面磁光克尔效应(SMOKE)和磁导率频谱对由溅射功率和退火温度引起的材料磁性能的变化,以及对巨磁阻抗效应的影响进行了研究。1.当改变制备磁性层的溅射功率时,随着溅射功率的增加,多层膜样品的平面矫顽力逐渐减小,软磁性能提高,巨磁阻抗效应增大。当溅射功率为150W时,制备态样品