本论文首先在无掩模激光干涉光刻的理论基础之上,编写了模拟程序,对无掩模干涉光刻技术开展了计算机模拟研究,并得到了双光束、三光束、四光束干涉光的光强立体图以及二维等高线图。在计算机模拟的基础之上,我们设计并搭建了双光束、三光束及四光束干涉的光路图,分别用正、负光刻胶开展了实验研究并对实验结果进行了分析。在经过曝光、显影后,用光学显微镜和扫描电镜记录了干涉图像:经过双光束、三光束、四光束干涉曝光后,我们分别得到了一维光栅结构;三角点阵结构以及四方点阵结构。并且我们得到的结构与我们之前做的计算机模拟结果完全是吻合的。最后,我们利用搭建的三套干涉光路,使干涉光束作用于银、铝金属膜,初步探讨纳秒激光干涉光束制备金属过滤膜的可行性。从我们的实验结果中发现,我们制备的银、铝金属过滤膜孔径不均匀,且孔周围也不平滑。这主要是因为快速电子冷却和能量传输到晶格的时间尺度为皮秒量级,而纳秒级激光加工仍属传统热加工范畴造成的。