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钕铁硼(NdFeB)永磁材料作为一种性价比很高的能量转换介质而被广泛应用于各个领域。但它的耐腐蚀性很差,在潮湿环境或与腐蚀介质接触均容易产生腐蚀,因此必须进行表面涂层。目前主要采用的方法是电镀Ni或其他金属。而物理气相沉积方法相比电镀,具有工艺环保,薄膜质量高的优势,已经成为未来发展方向。本文采用磁控溅射方法在烧结NdFeB磁体表面沉积了Al、Ni单层和多层复合薄膜,研究了薄膜的制备工艺、组织结构以及薄膜成分和结构对耐腐蚀性和其他性能的影响。论文主要研究内容和结论如下:(1)研究了溅射工艺对NdFeB表面溅射Al薄膜、Ni薄膜和Al/Ni复合多层膜的影响。发现纯Al膜和Ni膜均以柱状晶的形式沉积到基片上。随功率和时间的增加,膜的厚度增大。偏压均可打断薄膜柱状晶结构生长,提高薄膜质量。而Al/Ni复合多层膜中,两种膜均以独立的相沉积,Ni膜打断了Al膜的柱状晶结构。随膜层数由3增加到13时,薄膜表面颗粒变小并变得致密平整。此外,磁控溅射具有绕射性,但侧面沉积薄膜厚度小于表面。薄膜沉积速率受基片清洁度和平整度以及溅射工艺影响。(2)对镀膜磁体进行了电化学测试,结果表明,分别在溅射功率为100W和溅射功率120W并施加150V偏压时,镀Al膜和镀Ni膜磁体的自腐蚀电流密度降低了一个数量级。镀层对磁体具有一定的防护效果。(3)Al/Ni复合多层膜在一定程度上也能提高NdFe B磁体的耐腐蚀性能。整体上随膜厚度增加,自腐蚀电流密度降低;施加偏压制备的多层膜比未施加偏压的多层膜具有更低的自腐蚀电流密度;13层薄膜具有比3层薄膜更好的耐腐蚀性;EIS阻抗测试也证实镀膜磁体的电容性圆弧半径远大于未镀膜NdFeB的容抗弧。其中Ni层施加了150V偏压的13层Al/Ni复合多层膜具有大于未镀膜磁体约90倍的容抗弧直径,具有很好的磁体防护效果。(4)对无镀膜NdFe B、工业化学镀Ni膜的NdFeB以及偏压下磁控溅射镀Ni膜的NdFeB磁体进行抗氧化测试结果表明,磁控溅射镀膜的磁体具有比化学镀镍磁体及未镀膜磁体更好的抗氧化性。(5)磁控溅射薄膜在提高磁体的耐腐蚀性的同时,对磁体磁性能并无损害。