偏振成像提供了有别于强度(即明暗)、频率(即颜色)以外的另一维度的信息。偏振片是偏振成像的重要组件,能实现对特定偏振方向光的过滤功能。随着纳米加工工艺的发展,亚波长尺度的微纳光栅得以实现并被证明有偏振特性。微纳光栅作为一种新型的偏振片,具有体积小、可集成的优点。本文面向偏振成像的应用,利用干涉光刻的方法和电子束曝光的方法制造了200nm周期的偏振光栅结构。首先利用等效介质理论分析了微纳光栅的偏振性,同时利用FDTD软件对光栅进行三维仿真,验证了其偏振性。其次,基于干涉光刻的原理与典型光路设计了液浸式干涉光刻系统,讨论了液浸式干涉系统需满足的约束条件,分析了盛液体的三角容器与光束入射角的几何关系,并给出了增加精度简化流程的光路调整方法。接着,使用电子束曝光和反应离子束刻蚀的方法制造了多方向微纳光栅阵列,成功实现了周期200nm铝光栅的制造,并根据光学显微镜的图像优化了反应离子束刻蚀的时间。最后,搭建光路验证了铝光栅的偏振性,并测出了铝光栅的消光比。制造的微纳光栅表现出了偏振特性,可用于偏振成像中。微纳光栅厚度小,可允许光大角度入射而不影响消光性能。在平面显示技术、偏振成像技术等领域,微纳光栅能为系统提供更高的集成度、稳定度,对光电显示器件与成像器件的发展具有应用价值。