磁头表面精密研磨工艺的质量改善研究

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磁碟容量和密度的增加要求提高磁头读写性能:提高磁头的读、写传感器的高度控制精度,同时要求提高磁头表面质量以便降低磁头飞行高度。如果表面粗糙峰大于飞行高度,将会发生磁头和磁碟相撞的事故,损坏硬盘数据或造成磁头读写功能失效。在磁头的制造加工过程中,主要通过电阻导向研磨工序的加工使磁头获得满足读、写性能要求的纳米级物理高度、表面粗糙度和磁头轮廓形貌。改善表面凸起的黑点和磁头高度控制精度,可以提高磁头性能、制造良品率,并提高磁头可靠性,最终增强企业竞争力。本论文从磁头的生产工艺流程和电阻导向研磨工艺分析入手,对电阻导向研磨过程中形成的黑点和读、写磁头高度控制工艺进行了研究,讨论了黑点产生的原因和影响因素,分析了磁头高度控制的原理和工艺过程。通过对黑点成分和研磨工艺分析,提出黑点是由金刚石磨粒嵌入磁条表面形成,并通过实验验证了影响黑点的因素包括金刚石结构和大小、研磨盘材质、研磨压力、磨粒在研磨盘表面所处的状态,找到了改善黑点的工艺参数和条件组合,提出了采用分离自由磨粒的方法进一步改善黑点的新方法。通过对研磨高度控制方法和过程分析,提出了标准差分类研磨的方法改善读头的高度控制异常率:在物料的标准差较大时,通过降低研磨盘转速增加研磨时间,使PID控制过程有足够的时间获得更好的收敛结果;标准差较小时,则提高研磨盘转速缩短研磨时间。对于写磁头的高度控制,提出采用角度动态反馈调节的方法改善写磁头高度控制异常率,并通过软硬件优化后实验验证其有效性。
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