集成电路技术是现代科技进步中发展最快、渗透性最强、应用性最广的关键技术,而在研制集成电路的过程中,所付出的巨大投入主要体现在集成电路布图设计上。集成电路布图设计可以说是集成电路研制成功的关键,技术、资金和时间的投入都体现在该环节中。因此,在激烈的国际竞争中,集成电路布图设计往往成为投资者猎取的对象,其侵权现象在微电子行业内屡见不鲜。为了维护布图设计者的合法权益,有必要对集成电路布图设计侵权相关问题进行深入探究。集成电路布图设计侵权包括复制侵权和商业利用侵权,而实践中较为普遍的侵权行为为复制侵权,由于该类侵权的专业性过高,可以借鉴美国的司法经验采用实质相似的标准,从布局、连线、核心部分进行认定。集成电路布图设计侵权的抗辩事由中,复制侵权的抗辩事由为反向工程和独立创造,对反向工程的认定主要看是否为具有独创性的布图设计,而独立创造的判断有两种情况,一种是完全独立创作的布图设计,一种是通过反向工程所得的布图设计,前者主要看布图设计中的元素是否具有非常规性,后者的判断标准为辛苦和投入程度以及实质相似的标准；商业利用侵权的抗辩事由为合理使用、权利用尽、善意侵权和非自愿许可。基于集成电路布图设计侵权的特殊性,侵权人对其是否侵权应承担举证责任,因此其民事责任的归责原则应采过错推定原则,集成电路布图设计侵权行为的民事责任承担方式主要有停止侵害、损害赔偿、扣押销毁物品以及合理支出费用的补偿。通过从集成电路布图设计侵权的认定、侵权的抗辩、侵权民事责任这几方面对集成电路布图设计侵权问题进行深入探究,以期有利于我国集成电路布图设计保护在立法和司法上进一步完善。