在实验测试了纳秒激光对HfO2/SiO2高反膜损伤阈值的基础上,分析了不同激光作用下样品的损伤形貌和机制；在对样品进行激光预处理时,得到了最佳预处理激光能量范围。在归纳总结激光对光学薄膜的损伤机制方面,认为薄膜中的缺陷是导致损伤的主要因素,并从镀膜环节分析了提高薄膜抗激光损伤能力的方法。根据激光对光学元件表面损伤测试的国际标准,建立了损伤阈值测试系统。系统中,利用半波片和偏振棱镜作为激光输出能量的调节装置,实现了激光器输出能量的精确调节；采用CCD监测样品表面等离子体闪光的方式作为损伤发生的判据,从而可实时自动记录样品损伤情况。采用1-on-1测试方式,利用上述损伤阈值测试系统测量了纳秒激光对HfO2/SiO2高反膜的损伤阈值,得到了符合国际标准的零几率损伤阈值。认为该过程中损伤机制主要是膜层中的节瘤缺陷大量吸收激光能量是主要原因；而膜层因缺陷吸收激光能量形成的高温、高压等离子体亦对膜层形成烧蚀损伤。用纳秒激光对同批次的HfO2/SiO2高反膜样品进行预处理实验,结果表明扫描激光能量在35%以下时,损伤阂值提高了14.62%；扫描能量在60%-75%间时,阈值增长了35.55%；而当扫描能量在80%以上时,闽值只增长了5.145%。因此在单步扫描预处理中,存在一个提高阈值最大的激光能量区间,当能量超过该区间时,预处理效果将会下降。本文结果可供研究提高HfO2/SiO2高反膜抗激光损伤能力作参考依据。