金刚石薄膜低温合成的研究

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本文论述的是合成金刚石薄膜的实验研究及其初步理论模型。实验采用辉光等离子体辅助热丝CVD技术,目的是降低衬底基片温度,以实现高品质金刚石薄膜的低温合成,研究金刚石薄膜的低温合成机理,建立其初步的理论模型。 实验对所合成的薄膜样品采用SEM,Ramman光谱和X射线衍射检测和分析其成分和结构特性。实验中所用的基片为P型硅(100)单晶片,工作气体为高纯甲烷(CH_4
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