随着以柔性能源、柔性显示、柔性传感为代表的柔性电子产业迅猛发展,其中核心部件之一柔性透明导电薄膜的高质量制造成为一个关键环节。目前已经开发出的碳纳米管、石墨烯、银纳米线等柔性导电材料还面临着排布随机、制造困难、工艺复杂、成本高、无法大面积制造等种种问题。另外一些透明导电材料如ITO等则存在耐弯折性能有限的问题,所以不能满足实际需求。由于金属具有高导电性、高延展性等一系列优良特性,因此近些年科研人员开始将目光转向金属材料,期望制造出厚度较薄的金属薄膜,以用于柔性电子相关应用。同时在科学界,科学家们也将目光转向极小尺度、极高精度研究中。几纳米厚度金属薄膜在厚度上仅仅是原子量级,据预测将具有常规薄膜所不具备的介电和量子非线性光学等特性,如果能制备出超薄金属薄膜便能在实验上真正验证这一切科学假设。但是由于金属材料本身高表面能特性的缘故,导致金属在沉积过程中呈岛状生长,在厚度较薄阶段,金属薄膜表面呈现出不完整的空隙、沟槽,严重影响使用性能。因此,在正常情况下制造纳米厚度金属薄膜是一个很大的挑战。针对金属薄膜难以加工制备的问题,本文进行了相关研究,主要内容包括:（1）提出基于离子束抛光的薄膜制备工艺。使用该工艺制造的金属银薄膜在同等厚度下,能够实现比传统溅射工艺表面粗糙度更好、导电性更佳、表面缺陷更少的效果。并且在实验过程中制备出鲜有报道的厚度4 nm银薄膜,在电镜下观察形貌仍比较完整。（2）对可能影响离子束抛光工艺的衬底、起始抛光厚度、抛光能量、种子层修饰等工艺参数进行研究,从而推测出影响离子束抛光制备的深层次因素。（3）将离子束抛光制备工艺运用于柔性衬底薄膜制备中,制备出柔性透明导电薄膜。经弯折疲劳试验,通过与商用ITO柔性样品比较,其耐弯折疲劳性能较商用ITO样品提高52倍,具有一定商用价值。（4）通过时域有限差分方法,预测出图案化金属薄膜的可能应用,并结合电子束光刻、离子束刻蚀等先进加工方法,探索出金属薄膜图案化加工工艺,为相关科学研究打下制造基础。本文所述离子束抛光工艺较传统溅射工艺制备薄膜在形貌有明显提升,通过离子束抛光工艺能制备出厚度更薄形貌完整薄膜。相关成果可应用于柔性透明导电领域,具有一定市场前景。并且超薄金属薄膜成功制造使基础科学研究中的小尺度微结构实验成为可能,为相关领域的探索奠定制造基础。