【摘 要】
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本文以TC4合金为研究对象,首先,利用非平衡磁控溅射技术制备了具有Cr、Ti和Si过渡层的类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜,探究了过渡层对DLC薄膜结构和性能的影响,考察了反应磁控溅射参数(基底偏压、沉积气压、甲烷流量和溅射功率)与DLC薄膜结构、力学和摩擦学性能的关联;其次,以不同基底偏压下制备的DLC薄膜为基础,利用有限元方法模拟了不同膜层顺序(偏压调控的软硬薄膜
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本文以TC4合金为研究对象,首先,利用非平衡磁控溅射技术制备了具有Cr、Ti和Si过渡层的类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜,探究了过渡层对DLC薄膜结构和性能的影响,考察了反应磁控溅射参数(基底偏压、沉积气压、甲烷流量和溅射功率)与DLC薄膜结构、力学和摩擦学性能的关联;其次,以不同基底偏压下制备的DLC薄膜为基础,利用有限元方法模拟了不同膜层顺序(偏压调控的软硬薄膜)、调制周期、调制比例对多层DLC薄膜承载能力的影响;最后,依据有限元模拟的结果,实验制备了多层DLC薄
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