该文研究了硅酸盐和铝酸盐溶液体系中AZ91D镁合金微弧氧化过程.分析了电解液浓度、电流密度和氧化时间等工艺参数对镁合金微弧氧化陶瓷膜生长过程及性能的影响,并利用SEM、XRD、EDS等技术观察分析了陶瓷膜层的微观组织和结构特点.通过观察反应过程中电压随时间的变化,给出了恒电流工作方式下微弧氧化的电压-时间规律曲线,并指出曲线与膜层生长过程的对应关系,据此提出了分阶段逐级提升电流密度的微弧氧化优化工艺.研究表明,微弧氧化工艺参数,如电解液组成、电流密度及反应时间等因素对生成的陶瓷膜的质量和性能有着显著的影响.在恒定电流密度工作方式下进行微弧氧化,各参数有一个性能最佳点,参数过高或过低都会降低膜层的性能.镁合金微弧氧化陶瓷膜主要由疏松层和致密层组成.疏松层具有许多微孔结构,微孔是膜层击穿过程中形成的放电通道.微弧氧化电解质溶液不同,所制得的氧化膜层的组织形貌也有很大不同,微弧氧化膜层的组织结构对耐蚀性有很大的影响.通过酸性点滴试验、中性盐雾试验和极化曲线测试等试验表明,硅酸盐溶液体系微弧氧化制得的陶瓷膜,其膜层组织连续致密,耐蚀性较好;而铝酸盐溶液体系微弧氧化制得的膜层组织不连续,结构疏松,因而耐蚀性差.通过微弧氧化,电解液中的离子能够进入膜层参与成膜反应.微弧氧化膜层的成分和相结构随反应电解液的不同而变化.在硅酸盐溶液体系,镁合金微弧氧化陶瓷层主要由MgO和少量的Mg<,2>SiO<,4>相组成;而在铝酸盐溶液体系下的微弧氧化膜层的主要组成相是MgAl<,2>O<,4>.