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非晶碳氮薄膜具有许多优异的性能,如高硬度、极低的摩擦系数、化学惰性及可控的电导性等,在许多领域具有巨大应用前景,因此,开展非晶碳氮薄膜的研究具有重要的实际意义。本文主要开展了两个方面的研究,一是不同粒子在薄膜表面的吸附性能的研究,二是利用射频磁控溅射法制备非晶碳氮薄膜并对薄膜结构成分和各项性能进行研究,本文主要研究结论如下:(1)利用Material Studio软件对N、N2和CN团簇在硅表面及石墨表面进行化学吸附仿真研究。结果表明N2分子在硅表面及石墨表面都不产生化学吸附,N原子和CN基团在硅表