超精密光学抛光关键技术的研究

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该文深入全面地研究了超精密光中抛光表面温度、抛光力、抛光液、抛光模层材料结构和粘弹性特性.并在理论研究成果指导下,探索出光学超光滑表面抛光工艺以及石榴石晶体的超精密无损伤抛光工艺.首次提出超精密光学抛光表面波度及形成机理.该文通过对抛光模层材料性能及结构的研究提出合成抛光模层材料的瞬间弹性变形量对抛光精度和质量影响最大.采用新型双层结构沥青抛光模,在合理抛光工艺参数下,实现了激光陀螺反射镜基片的超精密抛光.通过大量的实验研究证实,古典光学抛光法获得的表面,即使是超光滑表面也存在表面波度.
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