【摘 要】
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本论文综述了荧光粉的发展历史、现状、发展趋势及其现在先进的显示技术对新型荧光材料的要求.薄膜荧光材料是今后荧光材料研究的热点和发展趋势.本文研究了以Y(N0)和Eu(N0)溶液作为起始原料,六次甲基四胺法和柠檬酸络合法制备稳定的溶胶,并分别采用测定透过率和粘度的方法来检测所制备的溶胶.在硅片上旋涂后热处理制得均匀而且致密的(YEu)0薄膜.对溶胶一凝胶法制备的(YEu)0薄膜进行XRD、AFM、S
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本论文综述了荧光粉的发展历史、现状、发展趋势及其现在先进的显示技术对新型荧光材料的要求.薄膜荧光材料是今后荧光材料研究的热点和发展趋势.本文研究了以Y(N0<,3>)<,3>和Eu(N0<,3>)<,3>溶液作为起始原料,六次甲基四胺法和柠檬酸络合法制备稳定的溶胶,并分别采用测定透过率和粘度的方法来检测所制备的溶胶.在硅片上旋涂后热处理制得均匀而且致密的(Y<,1-x>Eu<,x>)<,2>0<,3>薄膜.对溶胶一凝胶法制备的(Y<,1-x>Eu<,x>)<,2>0<,3>薄膜进行XRD、AFM、SEM及发光性能测试表明,在650℃下烧结3小时得到的(Y<,1-x>Eu<,x>)<,2>0<,3>薄膜的结晶完好,这比高温固相法的结晶温度降低了200℃,,薄膜结构致密,无孔隙,属于立方晶系.激发和发射光谱显示,在240~260nm激发强度非常大,最大激发峰在248nm处;在254nm激发下,在612.5nm处有窄的强峰发射.对Eu<3+>的发光机理作了分析阐述,其激发带主要是Eu<3+>与0<2->之间的CTS激发,而发射光谱是Eu<3+>的<5>D<,0>→<7>Fj(j=0、1、2、3、4)的跃迁发射.对两种不同方法所制备的薄膜发光强度检测发现,柠檬酸络合法制备的薄膜发光强度只有六次甲基四胺法的73﹪.经过不同浓度的Eu<3+>掺杂的发光性能检测表明,用溶胶一凝胶法制备Y<,2>0<,3>:Eu<3+>时,掺杂浓度从常规高温固相法的6﹪提高到了8﹪.
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