聚吡咯薄膜的电化学合成和电化学性能研究

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该文通过电化学方法在惰性金属(铂、金)、不锈钢和铝电极表面合成了聚吡咯膜,并采用扫描探针显微镜(SPM)、交流阻抗技术(EIS)和循环伏安方法(CV)探讨了复合电极表面形态和电化学性能. 惰性金属表面PPY的电化学合成比较简单.循环伏安曲线上可看到一对对称的氧化还原峰.交流阻抗测试结果表明Pt/PPY电极显示出典型的导电高分子膜的阻抗谱特征. 由于电化学反应过程中阳极有其它反应发生,不锈钢电极表面合成PPY时要求电流密度稍高;在循环伏安曲线上表现为还原峰被掩盖,还原电位下阻抗谱图由于电极溶解出现异常. 在硝酸和吡咯的混合溶液中可实现除氧化膜、钝化和电聚合3阶段1步化,在铝电极表面合成聚吡咯膜.在硝酸溶液中、极化电位下, Al/Al<,2>O<,3>/PPY电极显示出典型的导电高分子膜的阻抗谱特征.在氯化钾溶液中,聚吡咯膜的存在使电极电位正移,加速了氯离子对Al/Al<,2>O<,3>基体的腐蚀.
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