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本文以Ni-Al-V合金为对象,首次采用微观相场法系统研究了温度、浓度对成核孕育期、沉淀序列、沉淀机制的影响规律,以及有序畴界面结构、界面迁移性、形核取向性.随温度降低,γ相和θ相的形核孕育期缩短、形核率提高和长大速度加快.随Al浓度减小,两相的孕育期延长;沉淀序列由θ相先析出,过渡到θ相和γ相同时析出,再过渡到γ相先出现.得出了沉淀机制对温度、浓度的响应关系.随温度降低,Ni<,75>Al<,4.5>V<,20.5>合金的θ相沉淀由非经典形核机制向等成分有序化+失稳分解机制转变,γ相沉淀由异相非经典形核机制向非经典形核+失稳分解机制转变;Ni<,75>Al<,6.5>V<,18.5>合金的θ相的沉淀机制由非经典形核+失稳分解向非经典形核转变,γ相的沉淀机制由异相非经典形核+失稳分解向等成分有序化+失稳分解逐渐转变;Ni<,75>Al<,7.5>V<,17.5>合金的θ相的沉淀为异相非经典形核机制,γ相沉淀机制从非经典形核+失稳分解转变为等成分有序化+失稳分解.